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低溫恒溫循環器的使用事項

低溫恒溫反應浴常應用于對半導體制造裝置發熱部的冷卻：單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。并且對激光裝置發熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等起到很大作用。

1、低溫恒溫循環器提供－40～100℃溫度范圍內的低溫或恒溫液體，以滿足用冷卻水及低溫液體去降溫或恒溫儀器的需要。

2、低溫恒溫循環器特別適用與旋轉蒸發器（皿）、發酵罐、阿貝折光儀、電子顯微鏡，低溫化學反應釜、生物制藥反應器等實驗設備配套使用。

3、先進的內循環/外循環泵系統，內循環使儀器溫度均勻恒定，外循環泵輸出6升/分～18升/分流量的低溫恒溫液體，高揚程可達4.5米。

4、5升～30升的工作槽容積內還可放入裝有生物試劑或被測樣品的各種容器，直接進行低溫試驗或測試，實現一機多用。

5、微機智能控制系統，雙窗口數字顯示，具有溫度測量值偏差修正功能，具有超溫保護，傳感器異常保護功能。觸摸按鍵操作，方便快捷。

6、風冷式高效全封閉壓縮機制冷，降溫迅速。制冷系統具有過熱、過電流等多重過載保護裝置。

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